제 26회 반도체 대전 SEDEX 2024
October 23 ~ 25 / COEX SEOUL
HK TECH CO.,LTD.
Booth No.C232TiO2 Titanium dioxide
m 알루미나와
비슷한 기계적, 열적, 화학적 특성을 유지하면서 정전기 발생
원인 제거
m Application: 고 치밀도로 Scratch 방지 및 저 반사율을 가진 소재
Y2O3 Yttrium Oxide
m 희토류
금속인 Yttrium산화물로 내식성, 내 Plasma특성 우수(F/Cl Gas 우수)
m Application: ETCH, CVD 공정
등 반도체 장비의 챔버내 Ring, Nozzle, Pin
AlN Aluminum Nitride
m 고
치밀도로 내열 및 내식성이 우수, 낮은 열팽창 계수(4.2ppm/℃)
m Application: 반도체 Tube, OLED용 Crucible, Susceptor, CVD Nozzle, etc
SiC (Silicon Carbide)
m High Purity Silicon Carbide (SiC): 강한 공유결합으로 이루어진 탄화물 계열로 내마모성,
내
화학성, 내식성, 열전도도가 뛰어남
m Application: LED Tray, Ring,
Cathode 등 반도체 공정에 사용됨.
Ta Tantalum
m 고온
및 화학안정성이 우수하며, 타 물질과 반응하지 않음.
염산/질산/왕수 등에 우수한 내 산성 갖고 있음.
m Application: OLED 증착 장비용 Cell 부품 (Heater, Reflector 등) 사용
기타 제품
m Alumina (Al2O3)
m Sapphire
TiO2 Titanium dioxide
m Eliminate static electricity generation while maintaining
mechanical, thermal and chemical
properties of alumina
m Application: Material with high density anti-scratch and low reflectivity
Y2O3 Yttrium Oxide
m Yttrium oxide, a rare earth metal, corrosion resistant and excellent
internal plasma
properties (excellent F/Cl gas)
m Application: Ring, Nozzle and Pin in
Chamber of Semiconductor Equipment, including ETCH and CVD Process
AlN Aluminum Nitride
m High density for high heat resistance and corrosion resistance, low
thermal expansion
factor (4.2 ppm/°C)
m Application: Semiconductor Tube,
Crucible, Susceptor, CVD Nozzle, etc.
SiC (Silicon Carbide)
m High Purity Silicon Carbide (SiC): Highly
bonded carbide series for wear resistance,
Chemical, corrosion resistant and thermal conductivity is excellent
m Application: Used in semiconductor processes such as LED Tray, Ring, Cathode,
etc.
Ta Tantalum
m High temperature and chemical stability, not reacting with other
substances.
It has excellent acid resistance to hydrochloric acid/nitric acid/aqua
regia, etc.
m Application: Use of Cell parts (Heater,
Reflector, etc.) for OLED deposition equipment
Other products
m Alumina (Al2O3)
m Sapphire
에이치케이테크 (주) 2009 년에 설립되어 CVD / ETCHER / SPUTTER와 같은 반도체 장 비용 세라믹 부품을 지속적으로 공급하고 있습니다. 지속적인 투자와 세라믹 가공 기술을 기반으로 OLED 용 세라믹 / 특수 금속 제품을 포함한 여러 산업으로 확장했습니다. 끊임없는 혁신과 변화로 회사는 최고의 품질과 고객 만족을 위해 세계 시장에서 최선을 다할 것입니다.
HK-tech co., ltd. was established in 2009 and has been continually supplying ceramic parts for semiconductor equipment such as CVD/ETCHER/SPUTTER. We have expanded to several industries including ceramic/special metal products for OLED based on continuous investment and ceramic processing technology. With ceaseless innovation and change, the compa?ny will do its best in the global market in being realized for top quality and customer satisfaction.